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    6英寸樣品專用離子減薄儀(MU 600)
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學輔助離子束刻蝕、

                  過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

     
     
    型號:MU 600;   產地:歐洲;

    應用:過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe ;

    代表性用戶:法國科學研究中心(CNRS)、意法半導體(ST) 
     
    基本配置如下:
     
    主腔體:采用不銹鋼,直徑600mm×400mm
               采用35m3/h干泵+1500l/s低溫泵,真空度≤10-7mbar
     
    樣品臺:水冷4/6英寸,可以旋轉(轉速可達10rpm),可以0-180°傾斜(精度和可重復性優于0.1°)
     
    RF ICP源:1000W,100-1000eV
    均勻性:±4% on 4英寸
                ±6% on 140 mm
     
    氣路:氬氣氣路、反應氣路(用于反應離子束刻蝕RIBE)
     
    刻蝕監控:SIMS,分子泵240l/s+干泵5m3/h
     
    控制系統:全自動控制,半自動和手動模式可用
                  支持多級用戶權限設置和管理
                  支持設備遠程操作、監控、診斷和維護
                  系統自動報警及定位故障
     

     

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