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    MEB800S離子束輔助沉積光學鍍膜系統(Ion beam assisted deposition)
    發布日期:2022-02-13

    關鍵詞:電子束蒸鍍、熱蒸鍍、離子束輔助沉積、高真空鍍膜設備、光學監控系統、OMS、 金屬膜、

                  氧化膜、IBAD、IBD、光學薄膜、紫外、紅外膜、增透膜、增反膜、二氧化硅/鋁復合膜

     

     

    熱蒸發源:多個

     

    電子束蒸發源:多坩堝

     

    高真空系統:低溫泵+干泵,真空度<10-7 Torr

     

    樣品臺:可接納4個6英寸襯底

     

    膜厚檢測系統:多個晶振檢測探頭

    沉積速率分辨率:0.01A/s

     

    離子束輔助沉積

     

    光學監控系統:多個探頭、多波段。

    監控范圍:220nm-2200nm

    高精度鍍膜

     

    電腦控制:全自動軟件

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