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    SourceLAB 激光等離子體實驗專用儀器
    發布日期:2021-03-11


    SL-ALC全自動長程可調氣室(用于激光等離子體加速器)

    資料下載:SL-ALC介紹1SL-ALC介紹2

    SL-ALC-HI是一款全自動長度可調氣室,設計用于那些需要毫米到厘米長度的穩定介質的低密度激光等離子體相互作用實驗,例如,電子加速和衍射、反康普頓散射、伽馬射線產生、X射線激光、高次諧波產生,特別是高頻激光尾場加速(LWFA)。

    技術參數

    性能 超過50 mm的穩定氣體介質 入射壓強 最高 4 bar
    步進電機精度 0.5 µm 噴嘴直徑 100 µm 到 2 mm
    真空兼容性 10-6 Torr 脈沖流模式 可選
    外形尺寸 / 質量 196 x 99 x 80 mm / 1.5 kg    

     

    型號對比列表

    應用參考文獻: Observation of longitudinal and transverse self-injections in laser-plasma accelerators

     

    SL-ST-1000 激光等離子體固體靶

    超高位置精度< 2 µm;使用壽命>300萬次連續射擊;

    轉速>720 °/s;超高精度移動平臺;全自動且易于準直

    SL-ST-1000技術文件下載

     

    SL-ST-1000激光等離子體固體靶最早由d’Optique Appliquée實驗室研制,是一種電動機械裝置,設計用于重頻可達數kHz高能激光與固體靶相互作用中,可用于等離子體鏡對比度提升和高能粒子或射線產生,如亞飛秒紫外脈沖、電子或質子束加速。

    同時,SL-ST-1000可在高速旋轉和平移條件下工作,尤其適合與高頻激光系統協同工作,即使在激光束聚焦斑點極小情況下。當然,該系統設計可用于真空條件下工作(10-6 mbar)。直徑200mm的大尺寸靶面,可支持300萬發100微米射擊間距實驗。

    性能   旋轉  
    準直后殘余運動量 < 2 µm ( < 200 nm 可選) 電機類型 力矩電機
    連續轟擊次數 (單個靶面) >3百萬 (100μm轟擊間隔) 范圍 >360°
    其他參數   分辨率
    尺寸(X x Y x Z) 350 x 250 x 340 mm 固有抖動 < 10 µrad
    質量 7.9 kg 最大速率 720 °/s
    X軸平移   抖動修正  
    電機類型 步進電機 電機類型 Picomotor致動器
    范圍 200 mm 范圍 12.5 mm
    Z軸平移   分辨率 30 nm
    電機類型 步進電機 最大速率 0.5 mm/s
    范圍 30 mm    
    分辨率 0.1 µm    
    精度 2 µm    
    最大速率 5 mm/s    
           

     

    參考文獻下載

    Attosecond control of collective electron motion in plasmas

    Brunel-Dominated Proton Acceleration with a Few-Cycle Laser Pulse

    High repetition rate plasma mirror device for attosecond science

    High-harmonic generation from plasma mirrors at kilohertz repetition rate

    Supplement ary Information for Attosecond lighthouses from plasma mirrors

     

    SL-XPW寬能量高效激光時間對比度濾波系統

    資料下載:SL-XPW-1000 技術參數

    XPW濾波系統可實現3個量級對比度增強,適用于重頻高達數kHz和能量范圍高達10mJ的超短脈沖光器,且透過率可高達20%。此系統還可對超短脈沖后端壓縮。

    應用案例   References
    ?? 飛秒脈沖對比度提高(增強> 3量級)  ?? Ricci et al, Opt. Exp. 21, 9711-9721 (2013)
    ??飛秒脈沖后端壓縮 (壓縮率>2倍)   ?? Ricci et al, Appl. Sciences, 3, 314-316 (2013)
    ??產生高對比度循環脈沖 ?? Ricci et al, RSI, 84, 043106 (2013)

     

    主要技術指標

    輸入能量范圍 1 - 10 mJ
    輸入脈寬范圍 5 - 100 fs
    總能量輸出 10 - 20% (根據配置不同)
    光譜帶寬 兩倍
    XWP脈沖寬度 輸入脈寬的1/2
    對比度增強 3 - 4 量級(根據配置而定)
    可用選項 特點

    ow B-integral

    輸入輸出光束指向穩定性

    全自動系統

    脈沖前端表征

    反射型光學設計

    機械化支架、相機和軟件

    增加光纖和晶體的自動化控制

    光譜儀、相機和轉件

    由于每個激光系統都有自己特性,XWP需滿足每個用戶需要,包括對比度增強、能量輸出量、可用空間、B積分等。我們可根據用戶的需求量身定制。

    Spatial beam profiles after XPW                                                                               5 fs pulse FROG traces

    a) Near-field and b) Far-field                                                                                 After HCF and After XPW filtering

    應用參考文獻

    Efficient cross polarized wave generation for compact energy-scalable ultrashort laser sources

    Energy-scalable temporal cleaning device for femtosecond laser pulses based on cross-polarized wave generation

    Front-End Light Source for aWaveform-Controlled High-Contrast Few-Cycle Laser System for High-Repetition Rate Relativistic Optics

    High-fidelity front-end for high-power high temporal quality few-cycle lasers

     

    SL-KAIO系列激光等離子體源

    資料下載:SL-KAIO技術參數

    SourceLAB 基于TNSA質子開發了一種新型多功能SL-KAIO激光等離子體源,可以就用于激光等離子體相互作用的脈沖穩定性給出定量和定性的提示,以及如何改善。SL-KAIO是一種特殊的即插即用裝置,可用于強激光加速離子,可瞬時獲得高能離子束。

    詳細規格

    設備尺寸

    274 × 440 × 330 cm3 (H × L × l)

    重量

    ~ 30kg

    真空饋通

    ISO-KF 50

    重復頻率

    Up to 1 Hz

    截止能量

    最大5 MeV @1J激光能量

    質子數

    ~109 整個光譜積累

    薄靶材料/厚度

    典型Al, Ti, Ni / 0.4 - 數十微米

    觸發

    Yes (來自激光主時鐘TTL信號)

    連續使用時間

    200 shots

    周轉時間

    20 min

    分子泵

    10-5 mbar

    探測器模組

    湯普森拋物線 (E+B field)與MCP chevron或Radeye HR 耦合

    注射器針孔: 直徑100μm, 1mm厚

    基本要求

    激光脈寬 通常飛秒脈寬范圍 (λ0~700nm-1000nm)
    激光能量 壓縮后100mJ - 1J
    激光孔徑 < 47 nm
    輻射安全 粒子屏蔽

     

     

    SL-GT-10 高密度激光等離子體噴氣靶系統

    超薄、高密度噴氣靶系統用于近臨界條件研究

    資料下載:SL-GT-10介紹1SL-GT-10介紹2

    SL-GT-10是一款高壓快速開關噴氣靶裝置,專門設計用于激光等離子體相互作用研究。這款高密度噴氣靶提供了空前的密度范圍和噴氣尺寸,僅此需一個設備,實驗人員即可實現很多不同條件下激光等離子相互作用機制研究。

    SL-GT-10是僅有的噴氣系統,對于800nm的Ti:Sa激光脈沖能夠獲得近臨界條件密度,同時可保持噴氣尺寸小于1微米。

    Experimental gas jets lineouts from SL-Noz-Comp at 424 μm from the nozzle exit (in red) and from sonic nozzles of 400 μm of diameter SL-Noz-at 100 μm from the nozzle exit (in green).

    FWHM vs atomic density positioning of SL-GT-10 & typical applications

     

    噴氣指標   最大承壓 700 bar
    原子峰值密度(400 µm-圓柱形噴口) > 2x1021 atoms/cm3 (He, Ar, Ne) 閥門開/關時間 < 3 ms
    馬赫數 (亞毫米噴嘴) 高達 6個 氣動增壓器  
    梯度刻度長度(400 µm-圓柱形噴口) < 400 µm 入口壓力 Min. 30 bar
    重復頻率 1 Hz (抽氮氣能力2500 sccm) 出口壓力 Max. 400 bar
    開/關時間 15 ms / < 40 ms 數控
    兼容噴嘴類型 最小臨界直徑100 µm 高壓力管  
    閥門   長度 3 m
    閥尺寸 (L x r)/重量 90 x 34 (mm x mm) /1.5kg 耐壓 Max. 344 bar

    應用文獻下載

    Anticorrelation between Ion Acceleration and Nonlinear Coherent Structures from Laser Underdense Plasma Interaction

    Development and characterization of very dense submillimetric gas jets for laser-plasma interaction

    Ion acceleration in underdense plasmas by ultra-short laser pulses

    Persistence of magnetic field driven by relativistic electrons in a plasma

    Short Intense Laser Pulse Collapse in Near-Critical Plasma

     

    獨一無二的激光等離子體噴嘴制造解決方案

    資料下載:SL-Nozzles技術參數.pdf[5.73MB]

    模擬仿真:按CAD文件或指定規格

    為了滿足實驗人員探索精確相互作用機理和物理過程的需求,SourceLAB設計并精密加工了一系列特殊的噴嘴,從而可獲得特定等離子體形狀和密度。

    每種噴嘴都可以很容易地安裝在快速閥門上,并獲得想要的輸出流量。尤其是SourceLAB新型SL-Noz-Comp噴嘴(見技術參數),專門設計用于產生低于100µm的近臨界密度等離子體,更重要的是,相比起標準的400µm超聲速噴嘴,SL-Noz-Comp噴嘴可在距噴口更遠處產生1µm以下的高密度等離子體。因此,在保證出色的性能的同時,噴嘴壽命大大提高。

    SourceLAB還可根據客戶圖紙加工特定噴嘴,同時提供表征服務。

    SL-NOZ Class 物理應用 原子密度范圍 厚度 沿氣流密度梯度特征長度 射流邊緣密度梯度長度
    SL-NOZ-Comp 離子加速 1020 -> 5×1021 cm-3 100 µm > 1 mm < 100 µm
    SL-NOZ-I 電子加速 1018-> 1020 cm-3 0.1 -> 1 mm > 2 mm < 300 µm
    SL-NOZ-II 天體物理—沖擊波 1018-> 1020 cm-3 1 -> 2 mm > 2 mm < 300 µm
    SL-NOZ-IV 原子物理 1015-> 1017 cm-3 1 mm > 2 mm < 300 µm
    SL-NOZ-SLIT 相干X射線脈沖放大(SXRL) 1019-> 1020 cm-3 2 cm > 2 mm < 300 µm

     

     

    高分辨率高能量工業級無損檢測(NDT)解決方案

    SourceLAB與多個機構組成聯盟,開發第一臺基于激光等離子體相互作用的商業化X射線斷層掃描系統,該系統覆蓋0-20 MeV所有能量范圍,同時具備恒定 50 µm的分辨率和實時顯微斷層攝影能力 (分辨率1 µm @400 keV)。此系統突破了傳統X射線源(X-Ray tubes, gamma graphs, linear accerators)的限制,能量越高分辨率越低,無法實施顯微層析成像,一個系統多種能量系統,適用于工業上各種復雜、各種材料的部件。

    特性

    Source type  Gamma / X-Ray tomograph by laser-plasma acceleration
    • Source energy
    • From 0 to 20 MeV, continuously tunable
    Source resolution

     ~50 µm constant at high energy (0-20 MeV)

    Micro-tomography capabilities at low energy (~1µm @400 keV)

    Source flux > 10 gy/min/m
    Part material No limitation
    Part size Up to ~1 m3 for 1 ton
    Part thickness Up to 1 m stainless steel
    Detection Numerical, full 3D reconstruction


     

      A unique system covers all the energy range with a constant resolution far better than existing systems.

     

    應用文獻

     

    參考用戶

     

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