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    提供電子束曝光/紫外曝光/深硅刻蝕/等離子刻蝕及測量服務
    發布日期:2021-03-11

    我公司能夠提供下列服務:

     

    電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線寬為7nm的圖像;

    紫外曝光:可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜,最小線條為1um;

     

    牛津深硅刻蝕,深寬比至少可以達到10:1,可以把250um的硅片刻蝕穿透,且側壁陡直光滑、不長草;

    德國 ICP等離子刻蝕,可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料;

     

    測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機(切割硅片、玻璃、藍寶石等)等

     

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