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    多陰極磁控濺射鍍膜儀 (confocal sputtering system)
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:金屬薄膜,氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMS

                  TiN薄膜,抗腐蝕硬質膜,半導體薄膜,氧化物絕緣層

     

    型號:MP450S,  產地:歐洲 , 應用:沉積硬質膜,半導體膜,氧化物絕緣層等。

     

    反應磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的必備設備,可用于制備普通金屬薄膜,氮化鋁(AlN)壓電薄膜,Si3N4薄膜,TiN薄膜,抗腐蝕硬質膜,半導體薄膜,氧化物絕緣層等,適用于半導體,光電子學,光子學,微機電系統(MEMS)和微流體技術等領域。

    MP450S 配置 如下:

    腔體尺寸:內徑450mm、高度400mm,電解拋光不銹鋼腔體

    真空系統:采用1000l/s分子泵(可選擇低溫泵)+30m3/h機械泵

                      配備薄膜真空計、潘寧真空計

     

    磁控陰極:2個3英寸DC/RF磁控陰極,可傾斜最大35°

                      與樣品臺的距離手動可調(8-13cm)

                      每個陰極配備一個 圓柱形擋板,防止污染

                      每個陰極配備一個電氣閥

    陰極電源:一個500W,800V,0.9A, 13.56MHz射頻電源(可以升級到2kW)

                     允許共濺射或順序濺射

    反應氣路:3條氣路(Ar、N2,、O2),每個氣路配備MFC

     
    襯底尺寸:最大可加載6英寸襯底
                        
                      襯底可旋轉,轉速可達10rpm
     
                       采用電阻加熱可達300℃(更高溫度可選)
     
     
     
    刻蝕及偏壓:300W 頻率12.56MHz射頻源
                         射頻陰極電源用于提供樣品臺偏壓
                         射頻與旋轉和加熱機構兼容
     

    Load Lock(可選):采用Al合金腔體,手動樣品傳動臂。

                                       采用主腔體粗抽泵抽真空

                                       配帶皮拉尼真空計

    控制系統:全自動控制,半自動和手動模式可用

            支持多級用戶權限設置和管理
     
            支持設備遠程操作、監控、診斷和維護
           
            系統自動報警及定位故障

     

    若對我們的設備感興趣,歡迎聯系我們!

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