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    陰極反應濺射鍍膜系統
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:反應磁控濺射、氮化鋁、AlN

     

     

    應用:制備氮化鋁薄膜、電極Al膜制備

     

    真空泵:次級泵+低溫泵

     

    氣體氣路:Ar,N2,配帶獨立MFC

     

    磁控陰極:3個4英寸

     

    電      源:1.5kW 直流

     

    靶      材:Ni, Cr, Au, Al, Ti, W, Cu.

     

    襯底偏置:RF 300W

     

    樣品臺:可接納一個4英寸襯底

     

                襯底加熱裝置

     

    預真空送樣室

     

    全自動、半自動、手動模式

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