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    直流磁控濺射鍍膜系統
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:鍍膜、金屬膜、Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

           

     

    可在導體或絕緣體上濺射任何薄膜

     

    氣路:Ar氣路配搭MFC

     

    陰極:3個4英寸直流磁控管,一個加強磁控管用于Ni,一個6英寸磁控源

     

    靶材: Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

     

    直流電源:200mA-1A(1千瓦功率)

     

    襯底偏置:等離子刻蝕,20-250W(RF )

     

    樣品臺:可接納4個4英寸襯底,襯底可旋轉

     

    真空泵:前級泵+低溫泵

     

    全自動、半自動、手動模式

     

    支持遠程維護和操作

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