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    磁控濺射用于單層膜/多層膜/磁性膜制備
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:單層膜、多層膜、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜

                    連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

     

    型號:MP 900S    產地:歐洲      應用:單層膜、多層膜、磁性膜

     

     

    • 配置多個可更換金屬靶:Ni, Pt, Al, NiCr, Au, Ge, Ti, TaN

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    • 襯底雙行星運動,最大可加載4英寸襯底

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    • LOAD LOCK及主腔體均配備分子泵和干泵

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    • 可沉積多層膜,可原位應力檢測

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    • 應用于X-射線等領域.

     

    • 6個高度可調陰極磁控管

     

    • 3個1.5kW直流靶,3個1kW射頻靶

     

    • 氬氣、氧氣、氮氣氣路,分別配備MFC

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    • 全自動電腦控制,半自動和手動模式可用,支持遠程維護

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