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    金屬膜/氧化膜專用磁控濺射系統(RHEED/等離子體清洗)
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:單層膜、多層膜、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜

                    連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、RHEED

     

    型號:MP800S                產地:歐洲             應用:金屬膜、非金屬膜制備

     

     

    圓柱形主腔體:電拋光不銹鋼

             低溫泵+干泵

     

              三個6’’ DC磁控靶源,最大可達8英寸;

              分別配備獨立擋板,無交叉污染。

              RF加載到DC靶源可選,可用DC/RF。

              氬氣和氮氣氣路可用

              4’’襯底加熱;單色光學高溫計

              樣品臺冷卻:水冷

              石英晶振監測(DC/RF模式下均可)

              襯底:RF刻蝕及偏壓(13.56MHz,氣冷)

    LOAD LOCK (帶自動傳動手臂)

              分子泵+干泵

              全自動傳動襯底

    原位分析處理:RHEED (反射高能電子衍射)+等離子清洗/離子束清洗 Ion milling

     

    控制單元:全自動電腦控制,半自動和手動模式可選;遠程維護可用。

     

    典型用戶包括:格拉斯哥大學、法國波爾多第一大學、法國科學研究中心(CNRS)、CEA、加拿大滑鐵盧大學等。歡迎聯系我們索取詳細資料

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