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    介電薄膜沉積專用電子束蒸鍍設備
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、

                  離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅

     

     

      型號: MEB400S,  產地:歐洲    應用:沉積介電薄膜(SiO2, AlN, Al2O3等)

     

    • 用于介電質膜層沉積,例如SiO2,Si3N4,Al2O3

    •  

    • 樣品臺雙行星轉動,可加載4英寸襯底

    •  

    • 配備Load Lock和主腔體

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    • 真空系統:采用低溫泵/分子泵+干泵

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    • 10kW電子束源,多槍

     

    • 樣品臺可加熱

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    • 配備離子槍,可對樣品進行清理和刻蝕

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    • 配備氬氣、氮氣氣路和MFC

    •  

    • 全自動電腦控制系統,半自動和手動可用

     支持遠程維護、操作、監控

     

     典型用戶:格拉斯哥大學

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