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    MP600S鈮基超導結制備專用磁控濺射鍍膜系統
    發布日期:2022-02-13

    關鍵詞:多靶磁控濺射、共濺射、Co-sputter、金屬膜、氧化膜、半導體膜、非金屬膜、約瑟夫森結、

                   超導、量子器件、量子比特、 Qubit、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、

     

               sputtering system、Josephson junction

     

    設備型號:MP600S;    產地:歐洲;     應用:制備鈮基超導結或濺射其他膜材

     

    磁控濺射鍍膜系統可以沉積各種金屬、半導體、非金屬薄膜,又特別適合用于超導量子結、約瑟夫森結等量子器件的制備,例如:超導Nb、NbN、NbTiN及其他材料等,

    目前,包括中國科學院物理所、清華大學、哈爾濱工業大學、蘇州醫工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備;在國際上也獲得了美國(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon)、英國Glasgow  Univ)、德國KIT Karlsruhe, Dresden  Univ)、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利STMicroelectronics)等國家的著名機構的高度認可。
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