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    高真空電子束蒸發鍍膜機(通用型)
    發布日期:2021-03-11

    關鍵詞:電子束蒸鍍、金屬膜、氧化膜、約瑟夫森結、超導、量子器件、量子比特、

                  Qubit、 Evaporation system、超導鋁結、Josephson junction

     

    產地:歐洲;     型號:MEB550;   應用:制備金屬膜、氧化膜薄膜

       

    高真空電子束蒸發鍍膜設備是量子器件制備中必不可少的儀器,用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。MEB500高真空電子束蒸發鍍膜儀(HV E-beam evaporation system)得到全球科研工作者廣泛使用和推崇,并且具有良好的聲譽。利用上述配置,研究者可以制備各種高品質和高度可重復性Au, Ti, Pt, Pd, Al, SiO2, 鐵磁薄膜材料等。目前包括中國科學院物理所、清華大學、哈爾濱工業大學、蘇州醫工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備;在國際上也獲得了美國(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon)、英國Glasgow  Univ)、德國KIT Karlsruhe, Dresden  Univ)、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利STMicroelectronics)等國家的著名機構的高度認可。

     

    蒸發腔體:450×550×550mm

    真空系統:低溫泵/TMP+ 葉片泵/干泵;

    電子束蒸發源:6-15KW,6-8×15cc

    Load lock預真空進樣室:

    真空系統:TMP+葉片泵/干泵,

    樣品臺:可加載4英寸襯底

    襯底3D轉動

    襯底傾斜:角度范圍請咨詢;

    襯底旋轉:20rpm.

    襯底加熱

    襯底冷卻

    靜態氧化

    反應氣體:兩路反應氣體+MFC

                        支持反應蒸鍍和化學輔助離子束刻蝕

    襯底清洗:

                       RF等離子體清洗,300W RF (13.56 MHz)

                       離子槍清洗:考夫曼離子源,Ar氣路+ MFC 

    石英晶振膜厚控制儀

     

    全自動軟件包,支持半自動和手動模式,支持遠程網絡操作和維護。

     

    基礎設施要求: 咨詢我們!

    典型用戶:耶魯大學、UCSB、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心(CNRS)、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等,歡迎咨詢!

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